重大消息！工信部直接發(fā)文推廣國產(chǎn)光刻機(jī)，這證明商用很成功
時(shí)間：2024-09-15 10:47 來源：今日頭條 責(zé)任編輯：毛青青
原標(biāo)題：重大消息！工信部直接發(fā)文推廣國產(chǎn)光刻機(jī)，這證明商用很成功
內(nèi)容中提到“氟化氬光刻機(jī)（ArF DUV）”，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。
所謂套刻精度，就是常說的“多重曝光能達(dá)到的 精度”。
如果按套刻精度與量產(chǎn)工藝1：3的關(guān)系，那么這個(gè)光刻機(jī)大概可以量產(chǎn)28nm工藝的芯片。
這也就說明，國產(chǎn)28nm光刻機(jī)已經(jīng)被攻克下來。
雖然跟國外先進(jìn)制程水平還有差距，但至少能滿足90%以上的需求。
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